จีนทะลุขีดจำกัด! ผลิตชิป 5nm ได้โดยไม่พึ่ง EUV ดันวงการเซมิคอนดักเตอร์จีนก้าวกระโดด

ในความเคลื่อนไหวครั้งสำคัญที่อาจเขย่าอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์โลก Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) ของจีน ประสบความสำเร็จในการผลิตชิปขนาด 5 นาโนเมตร (5nm) โดยไม่ใช้เทคโนโลยี EUV (Extreme Ultraviolet Lithography) ที่ถูกควบคุมการส่งออกอย่างเข้มงวดจากชาติตะวันตก

แทนที่จะพึ่งพาเครื่อง EUV จาก ASML ของเนเธอร์แลนด์ ซึ่งถือเป็นผู้ผลิตรายเดียวในโลก SMIC หันมาใช้ เครื่อง DUV (Deep Ultraviolet Lithography) รุ่นเก่า ร่วมกับเทคนิคขั้นสูงที่เรียกว่า Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP) เทคนิคนี้เป็นการสร้างลวดลายความละเอียดสูงระดับเดียวกับที่ต้องใช้ EUV ผ่านการทำหลายชั้น (multi-patterning) และกระบวนการกัดลึกซ้ำ ๆ บนเวเฟอร์ซิลิกอน

แม้ว่าวิธีนี้จะใช้เวลานานกว่า ต้นทุนสูงกว่า และเสี่ยงเกิดข้อผิดพลาดได้มากกว่าการใช้ EUV โดยตรง แต่ผลลัพธ์ที่ได้คือ ชิป 5nm ที่ใช้งานได้จริง

รายงานระบุว่าชิปดังกล่าวถูกนำไปใช้ในสมาร์ตโฟนอย่าง Huawei Mate 60 ซึ่งมาพร้อมกับ ชิปเซ็ต Kirin 9000S และยังเป็นสมาร์ตโฟนรุ่นแรก ๆ ที่เปิดตัวฟีเจอร์การโทรผ่านดาวเทียมก่อน iPhone 15 ของ Apple

ความสำเร็จนี้ไม่เพียงแต่แสดงให้เห็นถึงความมุ่งมั่นของจีนในการผลักดันเทคโนโลยีขั้นสูงภายใต้แรงกดดันจากต่างประเทศ แต่ยังถือเป็นจุดเปลี่ยนทางเทคโนโลยีและภูมิรัฐศาสตร์ ของอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์โลกอีกด้วย

ที่มา : nokiamob

วันที่ : 29/4/2568